Nagpirma ng Kasunduan ang Toppan Photomask at IBM para sa Joint R&D sa Mga EUV Photomask para sa Semiconductor

(SeaPRwire) –   Pag-unlad ng pagpapaunlad ng EUV photomasks para sa mga disenyo ng teknolohiya ng 2 nanometro ni IBM

TOKYO, Peb. 7, 2024 — Ang Toppan Photomask, ang pinakapremiyong supplier ng photomask para sa semiconductor sa buong mundo, ay nag-anunsyo na pumasok na sila sa isang kasunduan sa pagpapaunlad ng pananaliksik at pagpapaunlad kasama ang IBM na may kaugnayan sa 2 nanometro (nm) na node ng lohikang semiconductor, gamit ang extreme ultraviolet (EUV) lithography. Kasama rin nito ang pagpapaunlad ng kakayahan ng High-NA EUV photomask para sa susunod na henerasyon ng mga semiconductor.

EUV photomask © Toppan Photomask Co., Ltd.

EUV photomask © Toppan Photomask Co., Ltd.

Batay dito, sa loob ng limang taon mula 1Q 2024, plano ng IBM at Toppan Photomask na pag-unladin ang kakayahan ng photomask sa Albany NanoTech Complex (Albany, NY, USA) at sa Asaka Plant ng Toppan Photomask (Niiza, Hapon).

Ang produksiyon sa malawakang pagkakataon ng node ng 2nm at nang mas malayo ay nangangailangan ng napakahusay na kaalaman sa pagpili ng materyales at kontrol ng proseso na malayo na lumampas sa mga pangangailangan ng karaniwang pangunahing teknolohiya ng pagkakalantad gamit ang isang light source na ArF excimer laser. Ang kasunduan ng IBM at Toppan Photomask ay magdadala ng mga mahahalagang kaalaman sa materyales at kontrol ng proseso upang magbigay ng komersyal na solusyon para sa pag-print ng 2nm node at nang mas malayo.

May mahabang kasaysayan ng pagkakatugma-tugma ng teknikal ang IBM at Toppan Photomask (dati ay Toppan Printing). Mula 2005 hanggang 2015, pinagsamahan ng IBM at Toppan Photomask (dati ay Toppan Printing) ang pagpapaunlad ng mga photomask para sa napapabilis na mga semiconductor. Nagsimula sa henerasyon ng 45nm node, lumawak ang sakop ng pinagsamang pagpapaunlad sa 32nm, 22/20nm, at 14nm na mga node na kasama ang unang gawain sa pananaliksik at pagpapaunlad ng EUV. Nagambag ang nakapagtipong kaalaman sa teknolohiya sa pag-unlad ng global na industriya ng semiconductor.

Mula noon, patuloy na aktibong ginagawa ng Toppan Photomask ang pagpapaunlad at produksiyon ng mga mask at materyales ng substrate para sa lithography ng EUV. Bukod pa rito, nangangailangan ang paglikha ng mga mask ng produksiyon ng EUV at pagpapaunlad ng susunod na henerasyon ng mas napapabilis na multi-beam lithography na kagamitan. Nag-iinstala ang Toppan Photomask ng ilang sistema upang matugunan ang pinakabagong mga pangangailangan ng roadmap ng teknolohiya ng semiconductor.

Teruo Ninomiya, Pangulo at CEO ng Toppan Photomask, ay nagsabi, “Mahalaga para sa parehong kompanya ang aming kooperasyon sa IBM. Maaaring maglaro ng mahalagang papel ang kasunduang ito sa pagtataguyod ng pagpapaliit ng mga semiconductor, pagpapalaganap ng pag-unlad ng industriya, at pagbibigay-ambag sa paglago ng sektor ng semiconductor ng Hapon. Tunay naming pinararangalan na napili bilang kapartner batay sa komprehensibong pagtatasa ng aming mga kakayahan sa teknolohiya at kompetitibong halaga, at nakatuon kami sa pagpapabilis ng pagkakatupad ng pagpapaliit para sa 2nm at mas malayo.”

Huiming Bu, VP ng Global Semiconductor R&D ng IBM, ay nagsabi, “Maaaring maglaro ng mahalagang papel ang bagong kakayahan ng photomask gamit ang EUV at mga sistema ng lithography ng High-NA EUV sa pagdidisenyo at paglikha ng mga teknolohiya ng semiconductor sa node ng 2nm at nang mas malayo. Layunin ng aming kolaborasyon sa Toppan Photomask na paigtingin ang mga innobasyon sa pagpapaliit ng lohika sa pamamagitan ng pagpapaunlad ng mga bagong solusyon upang payagan ang mas napapabilis na kakayahan ng paglikha ng foundry, isang mahalagang bahagi ng supply chain ng semiconductor sa Hapon.”

Tungkol sa Toppan Photomask
Ang Toppan Photomask Co., Ltd. (TPC) ay ang pinakapremiyong supplier ng photomasks para sa mga semiconductor at isang kompanyang pangkat ng TOPPAN Holdings Inc. (TYO: 7911). Nililok sa Tokyo, ginagamit ng TPC ang kanilang serbisyo sa buong mundo at walong pasilidad sa paglikha sa mahahalagang lokasyon upang mag-alok ng pinakamahusay na teknolohiya ng lithography. Lumalawak din ang TPC sa mga mold ng nanoimprint at iba pang produktong nano-fabricated. Para sa karagdagang impormasyon, bisitahin ang .

Pag-iingat na Pahayag
Naglalaman ang press release na ito ng mga pahayag sa hinaharap mula sa IBM at Toppan Photomask batay sa kasalukuyang paniniwala, mga pag-aakala, mga pag-aasam at may mga panganib, mga kawalan na maaaring magresulta sa mga aktuwal na resulta na malayo sa mga kasalukuyang inaasahan.

 

Company Contact:                                         

Agency Contact:

Bud Caverly                                                                 

Angie Kellen

Toppan Photomask                                                     

Open Sky Communications

Phone: +1-503-913-0694                                               

Phone: +1-408-829-0106                        

Email:                            

Email:  

 

Ang artikulo ay ibinigay ng third-party content provider. Walang garantiya o representasyon na ibinigay ng SeaPRwire (https://www.seaprwire.com/) kaugnay nito.

Mga Sektor: Pangunahing Isturya, Balita Araw-araw

Nagde-deliver ang SeaPRwire ng sirkulasyon ng pahayag sa presyo sa real-time para sa mga korporasyon at institusyon, na umabot sa higit sa 6,500 media stores, 86,000 editors at mamamahayag, at 3.5 milyong propesyunal na desktop sa 90 bansa. Sinusuportahan ng SeaPRwire ang pagpapamahagi ng pahayag sa presyo sa Ingles, Korean, Hapon, Arabic, Pinasimpleng Intsik, Tradisyunal na Intsik, Vietnamese, Thai, Indones, Malay, Aleman, Ruso, Pranses, Kastila, Portuges at iba pang mga wika.